SK하이닉스, 기술혁신 기여한 특허 발명 직원 포상

(왼쪽부터)김윤욱 SK하이닉스 지속경영담당 부사장, 황선환 SK하이닉스 미래기술연구원 TL, 장세억 SKHU 교수, 차선용 SK하이닉스 미래기술연구원 부사장. (사진=SK하이닉스)

[이데일리 김응열 기자] SK하이닉스(000660)는 회사 성장과 기술혁신에 기여한 특허를 발명한 구성원에게 포상을 제공하는 ‘혁신특허포상’ 시상식을 개최했다고 8일 밝혔다.

이번 시상식의 최고상인 금상은 총 2건이다. D램 내부 회로를 개선해 소비 전력을 낮춘 신범주 D램개발 TL과, D램 내부의 불순물을 제거해 소자 신뢰성을 높인 황선환 미래기술연구원 TL 및 장세억 SKHU(SK하이닉스 사내대학) 교수가 수상했다.

SK하이닉스는 이외에도 낸드, 패키지 등 다양한 기술 분야에 걸쳐 총 10건의 혁신특허를 선정하고, 이를 발명한 구성원 19명에게 상패와 총 상금 2억 1500만원을 수여했다.

올해로 5회를 맞은 혁신특허포상 시상식은 김윤욱 SK하이닉스 지속경영담당 부사장, 민경현 특허담당 SK하이닉스 부사장 등 담당 임직원들이 수상자들의 소속 조직이 있는 현장으로 직접 찾아가 진행됐다.

SK하이닉스는 지난 2018년부터 매년 혁신특허포상 제도를 실시해 회사의 매출과 기술혁신에 크게 기여한 특허를 선정하고 이를 발명한 구성원에게 포상하고 있다. SK하이닉스는 구성원들의 연구 의욕을 고취하고, 회사의 이익과 기술력이 증대되는 선순환 구조를 형성해 글로벌 일류 기술기업으로 나아가기 위한 특허를 지속적으로 발굴하겠다는 계획이다.