삼성D, '초고해상도 산화물 TFT' 개발 국책과제 주관기업 선정

[이데일리 신중섭 기자] 삼성디스플레이가 차세대 디스플레이 핵심 기술로 꼽히는 ‘초고해상도 산화물 TFT 개발’ 국책 과제 주관 기업으로 선정됐다고 12일 밝혔다.

삼성디스플레이 아산캠퍼스. (사진=이데일리DB)

삼성디스플레이는 오는 2024년까지 전자 이동 속도가 10배 빠른 산화물 TFT(Thin Film Transistor·박막 트랜지스터) 기술 확보를 목표로 연구개발에 나선다.

이번 개발 과제는 정부 주도의 연구개발(R&D) 프로젝트인 ‘디스플레이 혁신공정 플랫폼 구축사업’의 일환이다. 산업통상자원부는 2019년부터 2025년까지 차세대 디스플레이 핵심 기술 확보를 목표로 총 66개 연구 과제를 선정, 기업과 대학 등의 R&D 활동을 지원 중이다.

특히 이번에 삼성디스플레이가 개발을 주도하는 기술은 1000ppi(인치당 픽셀수)급 초고해상도 모바일 유기발광다이오드(OLED)에 적용할 수 있는 산화물 TFT로 전자 이동도를 한층 높였다. 소비전력과 함께 TFT 공정 난이도와 생산 비용을 획기적으로 낮출 것으로 기대되는 차세대 기술이다.

스마트폰 등에 탑재되는 모바일 디스플레이는 해상도가 높을수록 화면을 구성하는 픽셀의 밀도와 픽셀을 제어하는 TFT 회로의 집적도가 증가하면서 전자 이동속도가 빠른 TFT를 필요로 한다. 현재 상용화된 산화물 TFT는 공정 전자 이동 속도가 10cm2/Vs (전자의 이동 속도를 나타내는 단위) 수준으로 모바일 패널에 적용하기 어려웠지만, 해당 기술이 상용화되면 저전력 초고해상도 모바일 패널을 구현할 수 있을 것으로 기대된다.

이번 국책 과제를 총괄하는 추혜용 삼성디스플레이 공정연구팀장(전무)은 “이번 연구는 차세대 TFT 기술을 개발하는 것 외에 대기업과 중소기업, 대학, 연구소 등 디스플레이 산업 생태계가 협력해 국내 소부장 기술 경쟁력을 강화하는 데도 큰 의미가 있다”고 밝혔다.