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ASML은 반도체 초미세공정의 핵심인 극자외선(EUV) 노광장비를 전 세계 독점생산하는 기업으로 업계에서 ‘슈퍼 을(乙)’로 통한다. 독보적인 기술력과 한정적인 장비 생산으로 삼성전자, TSMC 등 고객사를 오히려 쥐락펴락하고 있다.
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ASML은 이번 보고서를 통해 차세대 EUV 장비인 ‘하이 NA’를 2025년 양산·보급하겠다는 계획을 밝혔다. ASML은 “노광 렌즈 수차(NA)를 0.33에서 0.55로 끌어올린 하이 NA 장비가 2025~2026년께 양산·보급될 것”이라며 “EXE:5000 이라고 불리는 하이 NA 장비는 리소그래피 기술 단순화를 통해 수율을 올리고 결함밀도를 줄이는 등 상당한 장점을 제공할 것”이라고 밝혔다. 하이 NA는 EUV 장비 해상력을 높여 미세한 반도체 회로를 구현할 수 있는 장비로, 최근 인텔이 2나노미터(㎚, 1나노미터는 10억분의 1m) 첨단 공정을 위해 이 장비를 우선 공급받기로 했다.
ASML은 또 장비 에너지 효율을 높이고 부품 재사용을 지향하는 친환경 경영을 강조했다. 보고서를 통해 “지난해에는 최신 노광기인 NXE:3400C를 사용함으로써 2018년 대비 EUV장비 생산 과정에서 에너지 사용량의 10%를 절감했다”며 “효율을 높여 에너지사용량을 점차 줄여 2025년까지 EUV 시스템 에너지 소비량을 10% 줄이는 목표를 달성할 것”이라고 밝혔다.
ASML 관계자는 “반도체 공정 특성상 고객사들이 EUV 장비를 사용하면 에너지 사용량이 많기 때문에 이 사용량을 줄일 수 있는 장비를 만드는 것을 목표로 하고 있다”고 설명했다.
또 포장재, 잠금장치 등의 재사용 확대를 언급하며 한국 등 현지 국가 내 재제조센터 확대에 나서겠다고 했다. ASML은 “수리와 재사용을 활성화할 것”이라며 “미국 윌튼, 샌디에이고와 대만 린커우 등에 재제조센터를 마련할 것”이라고 말했다.
앞서 지난 피터 베닝크 최고경영자(CEO)는 9일 서울 강남구 삼성동 코엑스에 열리는 ‘세미콘코리아 2022’ 기조연설자로 나서 최대 2억달러(약 2400억원) 규모로 지어지는 신규 화성캠퍼스를 언급했다. 그는 “ASML코리아 사무실과 글로벌 교육센터, 재제조시설이 포함된다”며 “한국 고객사들과 협업을 통해 반도체 생태계를 이끌어 나갈 것”이라고 강조했다.
ASML은 삼성전자와 인텔, TSMC를 핵심고객으로 꼽기도 했다. ASML은 “2012년 핵심고객 3개사에 주식을 발행했다”며 “EUV 개발을 가속화하기 위한 고객사들의 공동투자 프로그램으로 고객사들은 당시 특정개발 프로그램 및 ASML의 보통주에 투자했고, 현재 참여 고객사는 한 곳뿐”이라고 설명했다. 금융감독원 전자공시시스템에 따르면 지난해 3분기 기준 삼성전자 공정가치금융자산 중 ASML 보유주식 수는 629만7787주다. ASML 전체 지분의 1.5% 수준이다.
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