‘JFS U1’은 내년 초부터 양산 라인 평가에 들어가 내년 말부터 1% 습도관리가 필요한 중요 공정에 적용될 것으로 예상된다.
저스템 관계자는 “현재 반도체 산업전반의 CAPEX 축소와 감산 소식으로 투자 심리가 얼어붙은 가운데, 저스템의 JFS U1 제품이 FOUP 내 습도를 최소화하고 수율을 향상시킬 수 있는 반도체 오염제어 시스템의 새로운 모멘텀이 될 수 있을 것으로 예상된다”고 전했다.
한편 저스템의 ‘JFS U5’(Under 5%) 제품은 글로벌 업체의 대만 팹(Fab) 성능평가를 거쳐, 웨이퍼 25매 전체 위치 습도 3.5% 수준의 평가를 받았다. 현재 신뢰성 평가를 진행 중이며 일본 팹(Fab), 싱가폴 팹(Fab)의 장비에서 추가적인 평가를 진행 중이다.
‘JFS U5’는 중소기업 혁신과제로 개발이 진행됐으며, 담당 연구원은 지난 11월 ‘대한민국 엔지니어 대상’을 수상한 바 있다. 내년부터 양산 장비에 적용될 예정이다.