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HBM은 D램을 건물처럼 위로 쌓아 올려 데이터 처리량을 대폭 늘린 제품이다. 층수가 높아질수록 성능이 좋아져, 세대를 거듭할수록 HBM의 단수가 계속해서 높아지는 특징이 있다. 현재 양산 중인 HBM3E는 8단이다. 삼성전자와 SK하이닉스는 각각 2분기, 3분기에 12단 제품까지 양산할 계획이다. HBM4는 적층 단수가 16단까지 늘어날 예정이다.
신규 HBM은 기존 제품 대비 초기 수율이 낮고 최대 수율도 낮을 수밖에 없다. HBM은 기본 D램과 달리 난이도가 높은 실리콘관통전극(TSV) 공정, 본딩(접착) 공정, 패키징 기술 등이 추가된다. 현재 HBM3E의 핵심 부품인 TSV의 수율은 40~60%에 불과하다.
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최근 엔비디아는 공급업체에 “HBM의 품질과 수율을 높여 납품을 서둘러 달라”고 요청하면서 경쟁은 더 격화되고 있다. 삼성전자는 ‘HBM3E 12단’ 제품을 오는 3분기 엔비디아에 납품하기 위해 최근 100명 규모의 태스크포스(TF)를 조직해 총력을 기울이고 있다. SK하이닉스는 액화 소재를 개선하기 위한 연구에 집중하며 수율 올리기에 주력하고 있다.
양사의 HBM 기술도 다르다. SK하이닉스는 자사의 HBM 독자 기술인 ‘어드밴스드 MR-MUF’를 강조하고 있다. MR-MUF는 우선 D램을 쌓은 뒤 한 번에 오븐과 같은 장비에 넣고 굽는 식이다. 삼성전자는 마이크론과 같은 ‘어드밴스드 TC-NCF’ 기술을 사용하는데 칩 사이에 얇은 비전도성 필름(NCF)을 넣은 뒤 열로 압착하는 방식이다.
김귀욱 SK하이닉스 HBM첨단 기술팀장은 이날 ‘국제메모리워크숍’(IMW 2024)에서 “HBM4에서 주력 공정인 MR-MUF는 물론 하이브리드 본딩도 연구하고 있지만 현재까지 이 방법은 수율이 높지 않다”며 “고객사가 미래에 20단 이상 쌓은 제품을 요구했을 때에는 두께의 한계 때문에 완전히 새로운 공정을 모색해야 할 수도 있다”고 밝혔다.