by박진환 기자
2017.05.10 13:30:05
각국 캐릭터 업계 진단 및 대안 모색...지재권 정보 소개
[대전=이데일리 박진환 기자] 특허청은 중국·일본 특허청과 공동으로 오는 16일 서울 한국과학기술회관 SC 컨벤션센터에서 ‘한·중·일 디자인 포럼’을 개최한다고 10일 밝혔다.
올해로 8회차를 맞는 ‘한·중·일 디자인포럼’은 한국, 중국, 일본의 특허 전문가들이 디자인보호와 관련된 주요 현안사항과 이에 대한 해결방안을 논의하기 위해 결성됐으며, 3개국이 매년 순차 개최하고 있다.
이번 디자인포럼에서는 ‘캐릭터 디자인의 보호(Legal Protection of Character Design)’라는 주제로 각국의 캐릭터 업계 실태를 진단한 뒤 대안을 모색하는 한편 캐릭터의 법적 보호를 위해 디자이너 등이 숙지해야 할 지식재산권 정보들을 소개할 예정이다.
주요 내용으로는 △지재권을 통한 캐릭터 디자인의 보호 △중국의 만화이미지 디자인의 보호 및 일본 캐릭터의 법적 보호 △기업의 캐릭터 IP 침해 및 대응사례 △중국 캐릭터산업과 지식재산권 유통 및 이용실태 △일본 애니메이션의 해외진출 등에 대해 해당 분야 전문가들의 주제발표와 토의로 진행된다.
최규완 특허청 상표디자인심사국장은 “4차 산업혁명 시대를 맞아 기계로 대체될 수 없는 인간의 창조 활동, 특히 캐릭터 디자인과 같은 문화산업은 미래에 더욱 그 가치가 높아질 것”이라며 “이번 포럼을 통해 캐릭터 디자인의 권리보호에 대한 인식이 널리 확산돼 건전한 창작활동 조성에 도움이 되기를 바란다”고 말했다.