by김정남 기자
2012.08.27 16:39:01
ASML 지분 3% 인수..5년간 R&D 공동 진행
450mm 웨이퍼 기반 차세대 반도체 공정 앞당길 수 있을듯
[이데일리 김정남 기자] 삼성전자가 네덜란드의 반도체 리소그래피(노광) 장비업체인 ASML에 약 7억7900만유로(약 1조1000억원)를 투자한다.
삼성전자(005930)는 5억300만유로(약 7100억원) 상당의 ASML 지분 3%도 인수할 계획이라고 27일 공시했다.
또 지분 투자와는 별도로 ASML 차세대 리소그래피 기술 연구개발(R&D)에 5년에 걸쳐 2억7600만유로(약 3900억원)를 투자할 계획이다. ASML이 진행하는 고객사와의 공동 투자 프로그램에 참여하는 형식이다.
ASML은 반도체 미세회로 패턴 형성에 필요한 극자외선(EUV) 노광 기술을 가진 업체다. 전 세계 반도체 노광 장비 시장에서 80% 안팎의 점유율을 가진 최대 업체다.
최근 ASML은 자사 지분 25%를 걸고 인텔과 삼성전자, TSMC에 450mm에 대응하는 노광 장비 등의 공동 R&D을 제의했다. 인텔과 TSMC는 이미 ASML과 계약을 맺은 상태다.
삼성전자가 ASML과 공동 R&D 계약을 맺은 것은 450mm 웨이퍼를 기반으로 한 차세대 반도체 공정 도입을 앞당기기 위해서다. 450mm 공정을 적용하면 현재 주력인 300mm 웨이퍼에 비해 반도체 칩 생산성이 두 배 이상 높아지는 것으로 알려져 있다.
회사 관계자는 “이번 투자가 차세대 EUV 리소그래피 기술개발 시기를 앞당겨 반도체 산업 발전에 도움이 될 것”이라고 기대했다.