반도체 핵심 EUV 장비 도입 34→9일로 단축

네덜란드 반도체 장비기업 ASML의 극자외선(EUV) 노광장비 모습.(사진=산업통상부)

[이데일리 김형욱 기자] 정부가 반도체 공정의 핵심인 극자외선(EUV) 장비의 도입 절차를 34일에서 9일로 약 25일 단축한다.

2일 산업통상부에 따르면 정부는 이날 국무회의에서 이를 위한 고압가스 안전관리법 시행령 일부개정안을 의결했다. 내주 공포 절차를 거쳐 시행될 예정이다.

이번 조치는 인공지능(AI) 반도체 수요 확대에 맞춰 첨단 생산라인 투자를 늘리고 있는 삼성전자·SK하이닉스 등 반도체 업계의 장비 도입 부담을 줄여주기 위한 것이다. EUV 장비는 초미세 반도체를 생산 과정에서 웨이퍼에 미세회로 패턴을 새기는 핵심 노광장비로, 네덜란드 ASML이 사실상 독점 생산하고 있다.

그동안 EUV 장비는 내부에 고압가스 배관 및 장치가 포함돼 있다는 이유로 고압가스 일반제조시설로 분류됐다. 이에 따라 장비를 설치할 때마다 기술검토와 허가, 중간·완성검사 절차를 거쳐야 해 도입 지연과 비용 부담이 발생했다.

정부는 이번 시행령 개정으로 EUV 장비를 ‘고압가스 일반제조시설’이 아닌 ‘특정설비’로 분류하기로 했다. 이에 따라 검사 등에 소요되는 기간이 기존 34일에서 9일로 최대 25일 단축된다. 해외 공인검사기관의 내압·기밀 검사 절차도 생략돼 약 5억원의 검사비 절감 효과도 기대된다.

(표=산업통상부)

산업부는 이와 함께 고압가스 안전관리법 시행규칙도 일부 개정했다. 물과 세탁세제 대신 이산화탄소를 사용해 세탁하는 ‘액화 이산화탄소 세정설비’ 상용화를 위해 맞춤형 검사 기준을 신설하고, 위험성이 낮은 고압가스시설의 안전관리자 선임 기준을 현실에 맞게 일부 완화했다.

김정관 산업부 장관은 “안전 확보와 첨단산업 경쟁력 강화를 동시에 달성하기 위한 규제 혁신”이라며 “앞으로도 글로벌 기준에 부합하는 합리적 안전관리 체계로 첨단산업 투자를 적극적으로 지원하겠다”고 말했다.