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같은 혐의로 재판에 넘겨진 공범 3명에 대한 양형은 징역형 집행유에~징역 2년 6개월 등 원심 그대로 유지됐다. 재판부는 반도체 기술 국외 유출과 관련해 “국가 경쟁력에 악영향을 줄 수 있는 중대범죄”라며 “피고인들이 항소심에서 범죄를 인정하고 반성하지만 이런 사정만으로 원심의 양형을 바꾸기는 어렵다”고 설명했다.
다만 김씨에 대해서는 “피해 회복이 이뤄지지 않아 엄한 처벌이 불가피하다”면서도 “다니던 회사에 해고된 이후 재취업이 어렵게 되자 중국에 취업해 이 사건 범행까지 이뤄진 것으로 보이고, 삼성전자 핵심 기술 유출에는 관여하지 않은 점 등을 고려해 원심보다 낮은 형을 선고한다”고 양형이유를 밝혔다.
이들은 중국 반도체 회사 창신메모리테크놀로지(CXMT)로 이직한 뒤 삼성전자의 D램 공정 국가핵심기술을 부정 취득·사용하고 수백억원대 대가를 받은 혐의로 재판에 넘겨졌다.
검찰은 이번 기술 유출 사건으로 삼성전자의 2024년 추정 매출감소액만 수조원에 달하는 것으로 추정했다. 지난 2월 1심 재판부는 기술 유출 범죄가 “피해 회사의 막대한 시간과 비용을 헛되게 할 뿐 아니라 실제로 대한민국 국가산업 경쟁력에 큰 악영향을 줄 수 있는 중대 범죄”라며 “삼성전자의 피해는 어마어마한 액수에 이를 것으로 예상할 수 있다”고 질책했다.





