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이 포상은 SK하이닉스의 산학협력 대학에서 반도체 기술 연구과제 수행 중에 출원한 특허를 평가하고 우수 발명 성과에 포상하는 제도다. 연구자들의 사기를 진작하고 우수 특허 개발을 장려하기 위해 지난 2013년부터 포상은 매년 진행되고 있다.
올해 최우수상에는 ‘이온 주입 공정을 최적화하는 기술’을 개발한 문승재 교수가 수상자로 선정됐다. SK하이닉스는 실제 제품 적용 가능성이 높다는 점을 선정 이유로 밝혔다. 이온 주입 공정은 웨이퍼에 특정 불순물을 주입해 전류의 흐름을 제어하는 공정을 의미한다.
문 교수는 “연구자들에 대한 SK하이닉스의 지원과 포상은 큰 힘이 된다”며 “첨단기술 개발을 위해 산학이 서로 힘을 합쳐야 한다는 취지에 크게 공감한다”고 했다.
우수상은 ‘반도체 소자(트랜지스터) 최적화 조건을 정량화하는 AI 기술’을 개발한 백록현 교수(포항공대), 장려상은 정성욱 교수(연세대), 박은혁 교수(포항공대), 김예성 교수(DGIST)에게 돌아갔다.
차선용 부사장은 “반도체 기술로 더 나은 미래를 만들기 위해 산학연구는 지속돼야 한다”며 “산업 발전을 위해 지금 이 순간에도 끊임없이 노력하고 있는 수많은 연구자와 함께 우수 특허를 지속적으로 개발해 나갈 것”이라고 말했다.
