|
1심에서 징역형 집행유예를 선고받았던 B연구소장 등 다른 직원 3명도 징역 1년~1년 6개월의 실형이 선고되는 등 형량이 늘었다. 1심에서 벌금 4억원을 선고받은 협력사 법인은 2심에서 벌금이 10억원으로 늘었다.
2심 재판부는 “피고인들의 범행은 피해 회사뿐 아니라 우리나라 산업 전반에 큰 영향을 미쳤다”며 “특히 부사장 A씨는 최종 결정권자로서 범행을 지휘하고 깊이 관여했다”고 지적했다.
A씨 등은 SK하이닉스와 협업하면서 알게 된 HKMG(High-K Metal Gate) 반도체 제조 기술과 세정 레시피 등 반도체 관련 핵심기술과 첨단기술, 영업비밀을 2018년부터 중국 반도체 경쟁업체로 유출한 혐의를 받고 있다. SK하이닉스(000660)의 핵심 기술인 HKMG는 D램 반도체의 속도를 높이면서도 소모 전력을 줄일 수 있는 차세대 공정 기술이다.
피고인들이 SK하이닉스와 공동 개발한 기술 정보를 다른 업체에 알려준 혐의와 관련해 1심은 무죄를 인정했지만 2심은 유죄로 판단했다. 2심 재판부는 “기술을 SK하이닉스의 경쟁업체 등 제3자에게 은밀하게 제공하려면 적어도 사전에 SK하이닉스의 동의를 얻었어야 했다”며 “비밀유지 대상인 산업기술에 해당하고, 이를 유출한 것은 범죄”라고 봤다.
이들은 또한 삼성전자(005930)와 자회사인 세메스의 전직 직원들을 통해 몰래 취득한 세메스의 초임계 세정장비 도면 등 반도체 첨단기술과 영업비밀을 활용해 중국 수출용 장비를 개발한 혐의도 받고 있다.
