산업통상자원부는 23일 서울 보코 호텔에서 반도체 석박사 고급인력 양성을 위한 ‘민관공동투자 반도체 고급인력 양성사업’의 민관공동투자 유치 체결식을 열었다고 밝혔다.
민관공동 연구 개발(R&D)사업은 석박사과정 인력이 산업계 수요 R&D과제를 수행하여 기업이 요구하는 전문역량을 보유한 고급인력으로 양성되는 사업으로 기업이 직접 발굴·제안한 연구 개발(R&D)과제를 통해 기업은 대학의 인력을 활용해 핵심 원천기술을 확보하고 대학은 기업의 연구 개발(R&D)과제 수행을 통해 기업과의 기술 간극을 해소하여 실전경험을 보유한 전문인력을 양성한다.
이를 통해 향후 10년간 2365명 이상의 실전형 석박사 고급인력을 배출할 수 있을 것으로 기대된다.
정부와 업계는 2032년까지 총사업비 2228억 원을 일대일로 투자해 산업계가 필요한 반도체 전체 분야의 핵심기술 확보 및 실전형·고급인력 양성을 위해 전방위적으로 지원할 예정이다.
또한 업계는 반도체 첨단기술 확보 및 우수인력 양성을 위한 과제 발굴부터 기업 엔지니어의 기술멘토링을 통한 대학의 산학 R&D 지원까지 적극 협력하기로 약속했다.
이를 위해 삼성전자와 SK하이닉스는 올해 민관공동 R&D 과제기획 시 반도체 선단기술개발 및 애로기술 해소를 위한 과제발굴에 적극적으로 참여하였으며, 이를 통해 정부는 올해 R&D과제 47건을 추진한다.
이용필 산업부 첨단산업정책관은 “민관공동투자 유치 체결식은 산업기술 패권의 핵심인 반도체 산업의 기술경쟁력 확보 및 우수 인력양성이라는 두 가지 숙제를 민간과 정부가 원팀으로 해결해가는 중요한 첫걸음으로 정부는 지속적으로 민간과 협력하여 선순환적인 반도체 산업의 생태계 조성를 위해 노력해 나가겠다”라고 말했다.