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개정안에 따르면 기획재정부는 국가전략기술로 반도체, 2차전지, 백신에 더해 디스플레이를 포함했다. 패널(AMOLED, 마이크로 LED, QD)과 소부장(패널 제조용 증착·코팅 소재, TFT 형성 장비·부품) 관련 5개 기술이 새로 지정됐다.
현행 법령상 디스플레이는 정부 지원 수준이 국가전략기술보다 한 단계 아래인 신성장·원천기술로 분류돼 있다. 국가전략기술로 격상되면 현재 대기업 3%, 중견기업 6%, 중소기업 12% 등인 시설투자에 대한 세액공제율은 대기업·중견기업 8%, 중소기업 16%로 늘어난다.
여기에 정부가 재추진하는 조세특례제한법(조특법) 개정안이 국회를 통과하면 세제 혜택은 대폭 늘어난다. 기재부가 발표한 정부안의 골자는 국가전략기술에 대한 세액공제율을 대기업·중견기업 15%, 중소기업 25%까지 올리는 것이다. 올해 투자 증가분에 대한 세액공제율을 10%로 높여 최대 25~35%의 세제 지원이 예고됐다. 다만 과반 의석을 가진 야당인 더불어민주당의 협조가 관건이다.
기존 국가전략기술 분야인 반도체에서도 파운드리향 IP 설계·검증기술, 시스템 반도체 테스트 등 핵심 기술이 추가됐다. 차세대 메모리 반도체(PIM), 전력반도체(UHV, 고전압 아날로그IC), 디스플레이용 반도체(T-Con, PMIC) 등은 현행 기술 범위를 확대 적용했다. 이로써 국가전략기술은 총 4개 분야 32개 기술로 확장됐다.
신성장·원천기술도 260개에서 272개까지 늘려 미래 유망산업에 대한 R&D 지원을 강화했다. 이번에 새로 포함된 기술은 탄소중립(8개), 에너지·환경(2개), 지능정보(1개), 융복합소재(1개) 등이다.
‘유턴기업’에 대한 세제 지원 요건도 완화했다. 해외에 진출한 기업이 국내로 돌아오면 소득세와 법인세를 최대 5년간 100% 감면받을 수 있다. 해외사업장을 양도·폐쇄한 후 국내 사업장 증설을 완료해야하는 기간은 2년에서 3년으로 늘어난다. 기존 국내 사업장 내 유휴 공간에 신규 설비투자를 하는 경우에도 세액감면이 적용된다.
