[이데일리 서영지 기자] 삼성전자(005930)가 중국 산시(陝西)성 시안(西安)시를 중국 반도체 생산라인 건설지역으로 최종 확정했다.
삼성전자는 2일 이사회를 열고 중국 시안시 고신기술산업 개발구에 들어설 반도체 신규라인 건설을 위해 자본금 23억달러(한화 약 2조6000억원)를 출자하기로 결정했다고 밝혔다.
건물 건설 등에 필요한 초기 23억달러 출자에 이어, 앞으로 수년 동안 단계적으로 총 70억달러를 투자할 계획이다. 이번 투자는 삼성전자의 해외 반도체 생산라인 단일 규모로는 역대 최대에 해당한다.
삼성전자 관계자는 "시안시 주변에 삼성전자의 주요 고객와 세계적 IT 기업의 생산·연구 거점이 밀집돼 있다"며 "고객의 요청에 신속하고 효율적으로 대응할 수 있고 인재 유치에도 유리하다"고 설명했다.
시안시는 중국 정부가 추진 중인 서부 대개발 정책의 전략적 요충지로, 전기·용수 등 산업 인프라가 잘 갖춰져 있다. 이같은 이유도 삼성전자가 시안시를 반도체 생산라인 건설지역으로 선정하는 데 영향을 미쳤다.
삼성전자는 이른 시일 안에 중국과 생산·고용 규모 등 세부 협상을 마무리 짓고, 올해 안에 생산라인 건설에 착수, 오는 2013년부터 10나노급 낸드 플래시를 양산할 예정이다.
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