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이 장관은 이 자리에서 반도체 설비 및 연구개발(R&D) 투자 확대 방안을 발표했다. 원래 반도체 같은 국가전략기술에 대한 설비투자 세액공제율은 6~10%인데 이번에 기획재정부와의 협의 아래 8~12%로 2%포인트(p) 늘렸다. 대기업 설비 투자도 중견기업 수준의 혜택을 주겠다는 것이다. 또 테스트 장비나 IP 설계·검증 기술도 국가전략기술에 포함하는 방식으로 지원 대상도 늘리기로 했다.
추가 지원 여지도 있다. 산업부는 원래 미국발 반도체 공급사슬 재편에 맞춰 반도체 설비투자에 30% 수준의 파격적인 세제 혜택 지원을 추진했으나 기재부와의 협의 아래 일차적으론 현 수준의 지원방안을 확정했다. 그러나 다른 나라의 지원 확대에 맞춰 추가 논의를 진행할 예정이다. 미국 의회에선 현재 반도체 설비투자에 25% 수준의 세제지원을 하는 방안이 논의되고 있다.
산업부 관계자는 “(주요국이 반도체에 대한 세제지원을) 과감하게 도입하려는 움직임을 예의주시하고 있다”며 “당장은 현 수준의 세제지원 확대도 의미가 있지만 선진국 지원 추이에 따라 우리도 보조를 맞출 수 있을 것”이라고 말했다.
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기업 설비투자 계획에 발맞춰 크고 작은 규제 해소도 추진한다. 반도체 단지 용적률을 현 350%에서 490%로 최대 1.4배 늘린다. 이렇게 되면 평택 캠퍼스 클린 룸을 현 12개에서 18개로 늘릴 수 있다. 용인 클러스터의 클린룸 역시 9개에서 12개로 늘어나게 된다. 클린룸당 1000명의 고용 효과가 있다는 걸 고려하면 약 9000명의 고용 효과가 있다는 게 산업부의 설명이다.
노동·환경·인허가 규제 개선도 함께 추진한다. 현재 일본 수출규제 품목 R&D에 한해 적용하던 특별연장근로제(주 최대 근로가능시간 52시간→64시간)를 올 9월부터 전체 반도체 R&D로 확대하기로 했다. 화학물질관리법(화관법) 유해화학물질 취급시설 기준 규제도 연말까지 대폭 개선키로 했다. 국제기관 인증 장비는 취급시설 기준 충족을 인정한다. 또 대표 설비 통과 땐 동일 설비 검사를 면제하는 제도 적용 업종을 현 반도체 소자 제조에서 반도체 소재·부품·장비(소부장) 전 업종으로 확대한다. 국가첨단전략산업특별법 개정을 통해 반도체 산업단지 조성 때 중대하고 명백한 사유가 없는 한 인·허가 신속처리를 의무화하기로 했다.
산업부는 그 밖에도 반도체 인력난 해소와 시스템 반도체 및 소부장 부문 R&D 지원 확대 계획을 이번 전략에 담았다.
이창양 장관은 “산업 현장이 계속 진화하듯 이번 정책 발표도 반도체산업 발전전략의 완결이 아니다”라며 “앞으로 업계와 긴밀히 소통하고 관련 대책을 보완해 ‘반도체 초강대국 달성전략’을 실천해 나갈 것”이라고 말했다.
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