특허청, 30일 서울 DDP에서 ‘2016 디자인보호포럼-서울’ 개최

[대전=이데일리 박진환 기자] 특허청은 (재)서울디자인재단과 공동으로 오는 30일 서울 동대문디자인플라자(DDP) 나눔관에서 ‘2016 디자인보호포럼-서울(부제 : Fit your Design right!)’을 개최한다고 19일 밝혔다.

이번 포럼은 패션업계의 최근 모방 실태를 진단하고 대안을 모색하는 한편 패션업계의 글로벌 진출을 위해 패션디자이너들이 숙지해야 할 지식재산권 정보들을 소개하기 위해 마련됐다.

주요 프로그램으로는 △패션디자인의 모방 유형과 원인 및 특징 등 실태 분석 △패션디자인의 효과적인 권리확보 및 분쟁대응 전략 △패션디자인의 트렌드 변화에 따른 법적 이슈 등이며, 해당 분야 전문가들의 주제발표와 패널토의로 진행된다.

참가는 디자이너, 학생, 기업 담당자 등 패션디자인의 권리보호에 관심있는 사람이라면 누구나 디자인맵(designmap.or.kr)을 통해 무료로 신청할 수 있으며, 현장에서 패션디자인 권리보호에 관한 다양한 의견을 청취하고, 질의응답을 통해 궁금증도 해소할 수 있다.

최규완 특허청 상표디자인심사국장은 “이번 포럼을 통해 최근 패션업계의 일부 무분별한 모방 행위에 대해 경각심을 불러 일으키고, 패션디자이너들이 지식재산권을 올바르게 인식함으로써 패션업계의 건전한 창작 생태계 조성에 도움이 되기를 바란다”고 말했다.