[대전=이데일리 박진환 기자] 내년부터 타인의 아이디어를 탈취한 기업이나 개인은 손해로 인정된 금액의 최대 3배까지 배상해야 한다.
또 산업재산권 진단기관에 지출한 특허 조사·분석 비용이 중소기업의 연구개발(R&D) 세액공제 대상에 포함된다.
특허청은 이 같은 내용의 ‘2021년 새롭게 달라지는 지식재산 제도’를 31일 발표했다.
새해 달라지는 지식재산제도는 △지식재산권 보호 강화 △중소·중견기업 지원을 통한 코로나19 피해 최소화 △지식재산권 획득 편의 증진에 중점을 두고 있다.
우선 포스트 코로나 시대의 핵심자산인 지식재산 보호가 한층 강화된다.
내년 4월부터 고의로 타인의 아이디어를 탈취한 자는 손해로 인정된 금액의 최대 3배까지 배상해야 한다.
내년 상표법·디자인보호법·부정경쟁방지법상 손해배상액의 산정방식을 개선해 권리자의 생산능력을 초과한 판매량에 대해서도 손해배상을 받을 수 있게 된다.
부정경쟁행위에 대한 시정권고를 따르지 않을 경우 부정경쟁행위를 위반한 사실을 관보 등에 공표할 수 있게 된다.
산업재산권분쟁조정과 부정경쟁행위에 대한 행정조사가 동시에 진행되면 행정조사를 중지하고, 분쟁조정 결과에 따라 재조사 여부가 결정된다.
영업비밀 유출이 의심되는 중소기업은 민·형사소송에 필요한 초기 유출증거 확보를 위해 디지털 포렌식을 지원받을 수 있다.
지재권 분야에서 중소·중견기업에 대한 코로나19 피해 지원이 확대된다.
내년 1월부터 중소기업이 산업재산권 진단기관에 지출한 특허 조사·분석 비용을 R&D 세액공제 대상에 포함한다.
내년 3월부터는 중소기업과 공동연구 시 수수료를 감면해주는 대상을 모든 주체로 확대하고, 출원료·심사청구료를 비롯해 설정등록료도 50% 감면해준다.
소재·부품·장비 분야 수출기업의 특허분쟁 대응지원을 강화하기 위해 분쟁정보 모니터링을 확대하고, 분쟁위험 사전진단 및 자문, 분쟁 대응전략 수립을 지원한다.
글로벌 IP스타기업(지역의 유망 수출 중소기업)의 해외출원 심사 대응과 등록비용 지원 대상을 특허에서 상표·디자인으로까지 확대한다.
스마트폰을 활용한 특허·실용신안·디자인권 출원이 가능해진다.
새로운 유형의 상표와 동작·색채상표 등 기존 비전형상표의 심사 세부기준이 수립된다.
일괄심사 신청대상이 확대되고, 요건도 완화된다.
유사한 제품으로 이뤄진 제품군이나 디지털 서비스 등이 일괄심사 대상이 되며, 스타트업도 일괄심사를 이용할 수 있다.
일괄심사를 신청한 출원이 거절결정된 경우 이에 대한 불복심판을 우선심판 대상에 추가해 권리화 여부를 조기에 심판에서 재검토 할 수 있도록 보완했다.
또 논문이나 연구노트 등을 그대로 출원할 수 있는 임시명세서 제도 활용을 장려하기 위해 출원료를 인하하는 등 출원인의 편의를 위해 제도가 대거 도입된다.
박용주 특허청 대변인은 “포스트코로나 시대를 맞아 빠르게 변화하는 국내외 환경에 선제적으로 대처해서 지식재산이 디지털 뉴딜을 이끄는 견인차 역할을 제대로 하도록 만드는데 중점을 뒀다”면서 새롭게 달라지는 지식재산 제도의 의미를 설명했다.