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국내서 `획기적 반도체 세정기술` 개발했다

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이정훈 기자I 2006.05.17 11:00:00

반도체 `패턴웨이퍼 건식세정기술` 국내 첫 개발
기존 습식세정 비해 60%이상 비용절감 `기대`

[이데일리 이정훈기자] 반도체 생산공정상 불순물을 제거하는 세정공정에서 기존 방식에 비해 60% 이상의 에너지를 절감할 수 있는 초임계 유체기술을 활용한 첨단기술이 세계 최초로 우리 학계와 업계 공동으로 개발했다.

산업자원부는 서강대 유기풍 화학생명공학과 교수 연구팀이 신성이엔지(011930), (주)동우화인켐 등 반도체 장비업체들과 협력해 세계 최초로 반도체산업의 세정라인에 활용되는 초임계 유체기술을 이용한 차세대 패턴 웨이퍼 건식 세정기술을 개발했다고 17일 밝혔다.

초임계 유체란 순수한 물질에 온도와 압력을 높여주면 기체나 액체로 머물 수 없는 초임계 상태가 되며 이때 기체와 액체의 양면적인 물성을 나타내는 유체로 변화하는 것을 말한다.

유교수 연구팀이 개발한 초임계 건식 세정법 기술은 현재 반도체 생산공정의 세정기술로 대부분 사용되는 습식 세정법 기술에 비해 60% 이상 에너지를 절감하고 연간 1380억원을 절약할 수 있는 세계적 수준의 기술.

현재 전세계 반도체 산업은 반도체 생산공정상 팹라인에서 불순물(포토레지스트 등)을 제거하는 고도 세정과정을 초순수를 사용하는 습식 세정법으로 대부분 처리하고 있으며 이는 에너지 사용 및 오염물질을 많이 배출하는 대표적 에너지 다소비 공정이다.

유교수 연구팀이 개발한 초임계유체 건식 세정기술은 초임계 상태의 CO2를 이용한 것으로 지금까지의 과학기술적 제반 문제를 완전히 해결했고 습식세정에 의한 세정효과와 동일한 효과를 거둘 수 있는 국제적으로도 가장 앞선 기술로 평가받고 있다.

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